工业级膜厚测量
专为工业环境设计的高精度膜厚测量解决方案，适用于各种严苛的生产环境
NS-20 手动测厚
悉识科技自主研发的反射式显微膜厚测量分析系统，采用白光干涉技术，实现非接触、无损的纳米级膜厚测量。适用于半导体、光伏、显示面板等行业，从实验室到生产线的全方位解决方案。
- 测量范围：1nm - 260μm（可扩展至3000μm）
- 测量精度：±0.5nm
- 重复性精度：0.01nm（100次标准差）
- 支持最多100层膜厚分析
- 便携式设计，适用于实验室和生产线
NS-30 自动膜厚
全自动高精度膜厚测量系统，专为生产线质量控制设计，支持自动样品台和批量测量，提供高效稳定的测量性能。适用于需要高 throughput 的工业应用场景。
- 自动化测量流程，支持自动样品台
- 可选AcuiTik® AI+高速模式，速度可达1000点/秒以上
- 生产线集成，支持SECS/GEM通信协议
- 测量范围：1nm - 260μm（可扩展至3000μm）
- 测量精度：±0.5nm
- 重复性精度：0.01nm
NS-Micro 显微膜厚仪
专为"微小区域（Micro-spot）"膜厚测量打造的显微光谱系统，可轻松将普通显微镜升级为膜厚分析专业设备。适用于微电子、光电子器件的微区膜厚测量。
- 光斑最小可达1μm
- 高精度测量，重复精度可达0.02nm
- 易于集成到现有显微镜系统
- 测量范围：1nm - 200μm
- 支持最多100层膜厚分析
NS-Touch 曲面测量膜厚仪
便携式曲面膜厚测量仪，专为复杂曲面和非平面样品设计。采用独特的光学设计，可对球面、非球面、自由曲面等复杂形状进行精准膜厚测量。
- 便携式设计，支持手持操作
- 曲面测量能力，支持球面/非球面测量
- 镜片镀膜AR,HC,疏水层测量
- 测量范围：10nm - 260μm
- 支持最多100层膜厚分析
NS-HR 厚膜测量仪
专为厚膜测量设计的高精度测量仪，采用多波段光源和优化算法，可对4μm至3000μm的厚膜进行精准测量，适用于涂层、复合材料等厚膜应用场景。
- 宽测量范围：4μm - 3000μm（厚膜模式）
- 高精度厚膜测量，精度可达5nm
- 稳定可靠性能，适用于工业环境
- 支持最多100层膜厚分析
- 多波段光源，适应不同材料
NS-100 高速线扫膜厚仪
采用创新的高速线扫技术，可一次性扫描整个样品并直接生成完整的厚度分布图（Mapping）。测量速度比传统单点测量方法快 100 倍以上。
- 线扫技术，速度比单点快 100 倍以上
- 直出 Mapping 图，无需拼接
- 光谱范围：380 - 1700 nm
- 12寸晶圆全扫描 <10 分钟
- 可集成到自动化生产线