实验室精密测量优质之选

NS-20
手动膜厚仪

专为实验室研发设计的高精度手动膜厚测量设备，支持紫外、可见光、近红外多波段配置，满足各类薄膜测量需求。

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NS-20 桌面式膜厚仪

核心特性

NS-20集成了悉识科技多项核心技术，为您提供出色的测量体验

亚纳米精度

测量精度可达±0.5nm，满足精密研发需求

快速测量

单点测量仅需1秒，支持批量样品快速扫描

智能分析

内置AI算法（可选），自动拟合薄膜模型，测量速度可达1000点/秒以上

易于操作

图形化界面，无需专业培训即可上手

产品型号

NS-20系列提供三个波段型号，支持灵活组合，满足不同应用场景的测量需求

NS-20UV

紫外波段专用

光谱范围 190 nm – 1100 nm
适用波长 深紫外至可见光
推荐应用 纳米薄膜、科研应用

NS-20

标准通用型

光谱范围 380 nm – 1050 nm
适用波长 可见光至近红外
推荐应用 通用膜厚测量

NS-20NIR

近红外波段专用

光谱范围 950 nm – 1700 nm
适用波长 近红外波段
推荐应用 红外折射率分析，厚膜测量

复合仪器配置

不同波段型号可自由组合，提供更广泛的测量能力

UV

NS-20UV

深紫外增强

NIR

NS-20NIR

近红外扩展

复合测量系统

覆盖190 nm - 1700 nm超宽光谱范围

同时满足紫外、可见光、近红外薄膜测量需求

组合优势

  • 一次测量获得全波段数据
  • 减少样品移动和定位误差
  • 提高多涂层样品分析效率

典型应用

  • 宽光谱响应涂层研发
  • 多层膜系精确表征
  • 光学薄膜质量控制

技术规格

专业级配置，满足各类薄膜测量需求

测量原理

白光干涉技术

波长范围

190-1700nm

重复精度

0.01nm

样品尺寸

最大 200mm（可定制其他方案）

测量速度

0.001~1秒/点（取决于具体算法）

膜厚范围

1nm-260μm

应用领域

广泛应用于半导体、光学、科研等领域的薄膜测量

半导体制造

晶圆、光刻胶薄膜厚度测量与监控

光学镀膜

增透膜、反射膜、滤光片等光学薄膜测量

材料研究

纳米材料、功能薄膜的研究与分析

质量控制

生产线薄膜厚度在线检测与品质管控

准备好提升您的测量效率了吗？

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