反射式膜厚测量分析系统 NanoSense

NS-100
高速线扫膜厚仪

采用创新的高速线扫技术，可一次性扫描整个样品并直接生成完整的厚度分布图（Mapping）。测量速度比传统单点测量方法快 100 倍以上，专为工业级高速检测场景设计。

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NS-100 高速线扫膜厚仪

核心特性

NS-100采用革命性的线扫技术，重新定义工业级膜厚测量的速度与效率

100倍速度提升

扫描整个样品的膜厚，其速度比单点测量方法快 100 倍以上，大幅提升生产效率

直出 Mapping 图

线扫整个样品，直接输出完整的厚度分布 Map 图，无需拼接处理

宽光谱范围

测量波长范围覆盖 380 至 1700 纳米，满足多种材料测量需求

产线集成

可自定义集成到自动化生产线中，支持在线实时检测

极速检测

12寸晶圆全扫描仅需 3 次扫描即可呈现整张 Map 图，用时小于 10 分钟

高可靠性

工业级设计，支持 7×24 小时连续运行，满足严苛的生产环境要求

技术对比

NS-100 线扫技术 vs NS-30 单点 mapping 技术

NS-30 Mapping

传统单点测量技术

测量方式

单点测量后拼接为 Map 图

12寸晶圆全扫描时间

70,000 个测试点用时 >48 小时

局限性：需要逐点移动测量，耗时较长，不适合大批量快速检测场景

推荐

NS-100 线扫 Map

创新高速线扫技术

测量方式

线扫整个样品，直接输出 Map 图

12寸晶圆全扫描时间

3次扫描后呈现整张 Map 图，用时 <10 分钟！

优势：速度提升超过 100 倍，适合大批量在线快速检测，显著提升生产效率

应用领域

NS-100广泛应用于半导体制造、光伏、显示面板等需要高速批量检测的领域

半导体晶圆检测

  • 12寸晶圆全表面膜厚均匀性检测
  • 先进制程薄膜工艺监控
  • 量产线在线质量控制

光伏电池片检测

  • 大面积电池片减反射膜检测
  • TOPCon/HJT 新型电池膜厚分布
  • 组件封装前快速全检

显示面板检测

  • LCD/OLED 彩色滤光片膜厚
  • 大尺寸面板镀层均匀性评估
  • 触摸屏 ITO 薄膜检测

技术规格

NS-100 高速线扫膜厚仪详细参数

NS-100 技术参数

产品类型 反射式膜厚测量分析系统（高速线扫）
光谱范围 380 nm – 1700 nm
测量方式 线扫整个样品，直出 Mapping 图
速度优势 比单点测量快 100 倍以上
典型应用 12寸晶圆全扫描 <10 分钟完成
集成能力 可自定义集成到自动化生产线中
适用行业 半导体、光伏、显示面板、光学镀膜

为什么选择 NS-100？

<10min

极速检测

12寸晶圆全扫描仅需不到 10 分钟，而传统方式需要 48 小时以上

100×

效率提升

相比单点测量方式，效率提升超过 100 倍，大幅降低检测成本

24/7

全天候运行

工业级稳定性设计，支持 7×24 小时连续运行，满足量产需求

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