NS-HR系列集成了悉识科技多项创新技术，为厚膜测量提供完整解决方案
覆盖10μm至3mm的广泛厚度范围，满足各种厚膜测量需求
测量精度可达±0.1%，在厚膜测量中保持出色的测量稳定性
单点测量仅需2秒，支持连续快速扫描测量
提供三种不同配置型号，满足不同应用场景和预算需求
NS-HR厚膜测量仪提供三种不同配置，满足各种应用需求
NS-HR系列提供从10μm到3mm的广泛测量范围，满足各种厚膜应用需求
最小测量厚度，适合较厚薄膜测量
宽测量范围，覆盖各种厚膜应用
最大测量厚度，适合超厚样品
NS-HR厚膜测量仪的详细技术规格
| 型号 | NS-HR980 | NS-HR980 Max | NS-HR1310 | NS-HR1550 | VIS延伸 |
|---|---|---|---|---|---|
| 波长范围 | 960 nm – 1000 nm | 1280 nm – 1340 nm | 1520 nm – 1580 nm | 380 nm – 1050 nm | |
| 厚度测量范围 折射率n=1.5 (透明介电材料) |
10 μm – 1 mm | 15 μm – 2 mm | 25 μm – 3 mm | 15 nm – 100 μm | |
| 厚度测量范围 折射率n=2.6 (SiC) |
6 μm – 600 μm | 9 μm – 1.2 mm | 15 μm – 1.8 mm | 10 nm – 60 μm | |
| 厚度测量范围 折射率n=3.5 (硅片) |
4 μm – 350 μm | 7 μm – 1 mm | 10 μm – 1.3 mm | 6 nm – 30 μm | |
| 准确度（取较大者） | 50 nm 或 0.4% | 50 nm 或 0.4% | 50 nm 或 0.4% | 2 nm 或 0.2% | |
| 重复精度1 | 5 nm | 0.02 nm | |||
| 稳定性2 | 5 nm | 0.05 nm | |||
| 光斑大小 | 500 μm | 1.5 mm | |||
| 测量速度 | 可选配1Hz或1kHz | 可选配1Hz或1kHz | |||
| 光源 | 卤钨灯或SLED选配 | 卤钨灯 | |||
| 样品尺寸 | 直径从1mm 到 300mm或更大 | ||||
| 参数项 | 规格 |
|---|---|
| 设备尺寸 | 300mm × 250mm × 350mm |
| 重量 | 约8kg |
| 工作距离 | 50-100mm |
| 接口 | USB 3.0, Ethernet |
| 电源 | AC 100-240V / 50-60Hz |
| 工作温度 | 15°C - 35°C |
| 操作系统 | Windows 10/11 |
| SDK支持 | C++, C#, Python, LabVIEW |
NS-HR厚膜测量仪广泛应用于各种需要厚膜测量的场景
用于测量硅片厚度、外延层厚度等半导体制造关键参数，确保产品质量。
测量光学窗口片、透镜、棱镜等光学元件的厚度，确保光学性能符合设计要求。
为科研机构和大学提供高精度厚膜测量能力，支持新材料研发和基础研究。
