悉光识天地
洞察微纳间

反射式膜厚测量基于光学干涉原理。当光线照射到薄膜表面时，一部分光在薄膜上表面反射，另一部分光穿透薄膜后在下表面反射。两束反射光由于光程差产生干涉现象，通过分析干涉光谱的特征峰位置和强度，即可精确计算出薄膜的厚度。悉识科技采用先进的白光干涉技术，结合自主研发的反演算法，能够实现亚纳米级精度的膜厚测量。

悉识科技的膜厚测量设备可测量从几纳米到几毫米厚度的薄膜。对于常见的半导体薄膜、光学镀膜和纳米级涂层，测量精度可达0.1纳米以内。NS-30系列配备高灵敏度光谱仪，能够精确测量超薄薄膜（如光刻胶、氧化层等），最小可测厚度低至10纳米以下。

我们的设备可测量多种薄膜材料，包括但不限于：半导体薄膜（硅、氮化硅、氧化硅）、光学薄膜（增透膜、反射膜、滤光片）、金属薄膜（铝、铜、金、银）、聚合物薄膜、光刻胶涂层以及各种复合薄膜。对于透明或半透明薄膜效果最佳，也可测量部分金属薄膜。

不需要。反射式膜厚测量采用非接触式光学测量方法，测量探头与样品表面保持一定距离，通过光学系统进行测量。这种方式不会对样品造成任何损伤或污染，特别适合脆弱样品、贵重器件以及需要保持表面洁净的应用场景。

椭圆偏振光测量技术（椭偏仪）是一种利用偏振光与薄膜相互作用特性进行测量的精密光学技术。当偏振光入射到薄膜表面时，由于薄膜对光的反射和透射会导致偏振状态发生变化（从线性偏振变为椭圆偏振），通过精确测量这种偏振状态的变化，即可计算出薄膜的厚度、折射率等参数。悉识科技的ES-Primo系列椭偏仪采用先进的多波长测量技术，特别适合超薄膜和复杂多层膜结构的精确测量。

两种技术适用于不同场景。反射式膜厚仪基于白光干涉原理，结构简单、测量速度快，适合测量透明或半透明薄膜的厚度，对光学参数有较好鲁棒性。椭偏仪测量的是偏振态变化，灵敏度更高，可同时获得厚度和折射率等更多参数，特别适合超薄膜（纳米级及以下）、多层膜结构以及需要精确光学参数的应用。选择哪种技术取决于您的具体测量需求。

测量速度取决于具体应用和精度要求。单点测量通常在毫秒级完成，即时获取厚度数据。NS-30系列支持自动样品台扫描，可预设测量路径进行批量测量。对于高速在线监测应用，我们的线扫式设备可达每秒数千点的测量速度，满足生产线的实时质量控制需求。

可以。悉识科技的设备支持多层薄膜结构分析，通过反演算法可同时解析各层厚度。我们的系统最多可分析100层以上的复杂薄膜结构，并能提供每一层的折射率和消光系数等光学参数。这对于分析半导体多层结构、复杂光学镀膜和涂层体系非常有用。

悉识科技提供标准校准片用于定期校准，建议每周或每1000次测量后进行一次校准验证。设备维护主要包括保持光学元件清洁、避免震动和污染环境、定期检查光源和光谱仪状态。我们提供完整的校准证书和维护服务，确保设备长期稳定运行。

可以。悉识科技的OEM模组专为设备集成设计，体积小巧、接口丰富，支持Modbus、OPC UA等工业通讯协议，可无缝对接PLC和MES系统。我们提供完整的SDK开发包和技术支持，帮助您快速实现自动化在线测量。