光伏行业专业解决方案

光伏膜厚
测量解决方案

针对光伏电池制造全流程的薄膜测量需求,提供专业的膜厚测量方案,覆盖晶硅、poly硅、钙钛矿等关键材料的厚度检测。

光伏膜厚测量

应用背景

光伏电池效率和稳定性与薄膜厚度密切相关,精确的膜厚控制是提升电池性能的关键

薄膜测量的重要性

  • 转换效率

    薄膜厚度直接影响光吸收、载流子传输和电池转换效率

  • 工艺均匀性

    电池片表面薄膜厚度的均匀性是衡量工艺质量的重要指标

  • 长期稳定性

    合适的薄膜厚度可提高电池的抗老化性能和长期稳定性

  • 成本控制

    精确的膜厚控制可减少材料浪费,降低生产成本

光伏电池结构

1

减反射膜 (ARC)

减少光反射,提高光吸收效率

2

发射极层 (Emitter)

n型掺杂层,形成PN结

3

本征层 (i-layer)

钝化层,减少复合

4

背表面场 (BSF)

提高少数载流子收集效率

光伏膜厚测量模块

针对不同光伏技术路线的薄膜测量需求,提供专业的测量方案

晶硅厚度测量

支持N型和P型单晶硅、多晶硅衬底的厚度测量,适用于晶圆制造和电池片生产过程中的厚度监控。

  • 测量范围:100μm - 1000μm
  • 测量精度:±1μm
  • 支持N型和P型硅片测量
  • 适用于薄片化工艺监控
  • 支持在线和离线测量模式

Poly硅厚度测量

支持多晶硅(Poly-Si)薄膜的厚度测量,适用于TOPCon、IBC等高效电池技术的poly层厚度监控。

  • 测量范围:50nm - 2000nm
  • 测量精度:±0.5nm
  • 支持掺杂和本征poly硅测量
  • 适用于TOPCon电池poly层监控
  • 支持多层poly结构分析

钙钛矿膜层测量

支持钙钛矿活性层、电子传输层(ETL)、空穴传输层(HTL)等多层膜系的厚度测量,适用于钙钛矿叠层电池研发和生产。

  • 钙钛矿层:100nm - 1000nm
  • ETL/HTL层:10nm - 200nm
  • 测量精度:±0.3nm
  • 支持多层膜系同时测量
  • 适用于叠层电池研发

减反射膜测量

支持SiNx、SiO2、Al2O3等减反射膜和钝化膜的厚度测量,适用于电池片表面处理工艺监控。

  • 测量范围:50nm - 1000nm
  • 测量精度:±0.5nm
  • 支持单层和多层ARC膜
  • 适用于双面PERC电池
  • 支持折射率同时测量

测量方案

根据不同的应用场景和测量需求,提供多种测量方案选择

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