ES-Tenso集成了先进的偏振调制和穆勒矩阵测量技术，为科研和工业应用提供全面的薄膜表征能力
4×4全穆勒矩阵测量，捕获完整的偏振信息，可表征各向异性和退偏振样品
同时输出膜厚、折射率n、消光系数k、介电常数ε，实现材料全面表征
内置光学模型与材料库，从光谱采集到参数提取全过程自动化完成
先进的迭代拟合算法结合光谱数据，确保亚纳米级高精度参数提取
从光源发射到参数输出的完整测量流程
光源发射宽谱光束，经光学偏振调制后入射待测样品表面
探测系统采集样品反射/透射后的偏振光信号（Psi/Delta参数、4×4全穆勒矩阵）
结合高精度光谱数据、内置光学模型与材料库，通过算法迭代输出厚度、n、k、ε
ES-Tenso椭偏仪的详细技术规格
| 参数项 | 规格 |
|---|---|
| 测量原理 | 偏振调制椭圆偏振光谱法 |
| 光源 | 宽谱光源，经光学偏振调制 |
| 输出参数 | 膜厚、折射率n、消光系数k、介电常数ε |
| 穆勒矩阵 | 4×4全穆勒矩阵测量 |
| 偏振参数 | Psi (Ψ) / Delta (Δ) 参数 |
| 探测模式 | 反射 / 透射 |
| 分析方法 | 算法迭代拟合，内置光学模型与材料库 |
| 自动化程度 | 从光谱采集到参数提取全过程自动化 |
ES-Tenso椭偏仪广泛应用于需要全面薄膜表征的各个领域
表征高k栅极介质、FinFET结构、3D NAND等先进半导体器件，同时获取厚度和光学常数。
全面表征AR/HR涂层、滤光片、分光镜等，包括各向异性和多层膜结构。
测量薄膜材料的介电常数ε，应用于电子学、电容器和储能领域。
无损表征生物膜、蛋白质吸附层、细胞培养基质等，提取完整的光学参数。
表征太阳能电池、锂电池、燃料电池等新能源器件中的功能薄膜层。
研究材料的介电函数、能带结构、等离子体共振等，利用全穆勒矩阵分析。
