NS-OEM 是基于 NS-20 薄膜测厚仪研发的。其光学探头设计得较为紧凑，可适用于多种安装环境。为确保测量精准，光学探头需与样品表面保持垂直，建议使用我们配备的调角工具来精准调节安装角度。光学探头经由光纤连接到主机，光纤长度灵活可变，能够满足不同布局的安装需求。
- 波长范围: 190–1000 nm 或 350–1100 nm.
- 光学探头专为集成到自动化设备、在线系统、真空腔室、原位生长腔室以及其他特殊环境而设计，以满足多样化的应用需求。
NS-OEM系列 参数规格
| 型号 | NS-OEM |
| 波长范围 | UV: 190 nm – 1100 nm STANDARD: 350-1050 nm HR980: 950 – 1100 nm |
| 厚度测量范围1 | 1 nm – 1 mm |
| 准确度2 | 2 nm 或 0.2% （取较大者） |
| 静态重复精度3 | 0.02 nm |
| 光斑大小 | 200 um ~ 2 mm, 标准大小1.5 mm |
| 测量速度4 | < 1s（单次测量） |
| 光源 | UV: 卤钨灯 + 氘灯 STANDARD:卤钨灯 HR980: SLED |
| 主机-光学探头连接方式 | 光纤 |
| 光纤长度 | 1.3 米 (标准), 可选配不同长度的光纤以适配实际环境，最大20米 |
| 光学探头尺寸 | 直径: 19 mm, 长度: 86 mm |
| 电源类型 | 90-264VAC, 47-63Hz, 1.4A/115VAC 1A/230VAC |
1. 取决于被测样品材料以及选用的波段范围.
2.选用硅晶圆上的二氧化硅标准厚度样品 (厚度范围500~1000nm).
3.计算100次测量500nm SiO2标准片的1倍标准偏差，对20个有效测量日的1倍标准偏差取平均
4.取决于配方复杂度，标准案例为硅晶圆上的二氧化硅标准厚度测量配方
