NS-30系列是桌面式自动膜厚测量分析系统。在膜厚测量的基础上迭加自动测样载台，能够对设置好的点位进行自动测量，并进一步生成2D和3D的资料分布图。 NS-30系列适用于晶圆膜厚测量或光伏电池膜厚测量等。
NS-30 特色
- 样品自动测量，平台尺寸100mm~450mm可选
- 软件根据需求自动生成测量点位分布
- 2D和3D测绘效果，包含厚度/折射率/反射率等信息
- 可测量薄膜应力和表面弯曲（Stress/Bow)
NS-30系列 参数规格
| 型号 | NS-30UV | NS-30 | NS-30NIR |
| 波长范围 | 190 nm – 1100 nm | 380 nm – 1050 nm | 950 nm – 1700 nm |
| 厚度测量范围1 | 1 nm – 40 μm | 15 nm – 80 μm | 150 nm – 250 μm |
| 准确度2 | 1 nm 或 0.2% | 2 nm 或 0.2% | 3 nm 或 0.4% |
| 精度3 | 0.02 nm | 0.02 nm | 0.1 nm |
| 稳定性4 | 0.05 nm | 0.05 nm | 0.12 nm |
| 光斑大小 | 1.5 mm | 1.5 mm | 1.5 mm |
| 测量速度 | < 1s（单次测量） | < 1s（单次测量） | < 1s（单次测量） |
| 光源 | 卤钨灯 + 氘灯 | 卤钨灯 | 卤钨灯 |
| 样品尺寸 | 直径从1mm 到 300mm或更大 | 直径从1mm 到 300mm或更大 | 直径从1mm 到 300mm或更大 |
1 取决于具体材料
2 Si/SiO2(500~1000nm)标样片
3 计算100次测量500nm SiO2标准片的1倍标准偏差，对20个有效测量日的1倍标准偏差取平均
4 计算100次测量500nm SiO2标准片的平均值，对20个有效测量日的平均值做2倍标准偏差
