NS-20系列是桌面式手动膜厚测量分析系统。在保证整体小巧轻盈的同时，其准确度和稳定性丝毫未减。拥有NanoSense系列所有的算法软件功能，极具性价比。
NS-20 特色
- 手动测量，极高灵活度
- 标准版光斑0.8~1.5 mm
- 可升级到0.2 mm 微小光斑（NS-20 Pro)
- 可定制便携手提箱，随时随地进行膜厚分析
- 可选配大尺寸样品台
NS-20系列 参数规格
| 型号 | NS-20UV | NS-20 | NS-20NIR |
| 波长范围 | 190 nm – 1100 nm | 380 nm – 1050 nm | 950 nm – 1700 nm |
| 厚度测量范围1 | 1 nm – 40 μm | 15 nm – 80 μm | 150 nm – 250 μm |
| 准确度2 | 1 nm 或 0.2% | 2 nm 或 0.2% | 3 nm 或 0.4% |
| 精度3 | 0.02 nm | 0.02 nm | 0.1 nm |
| 稳定性4 | 0.05 nm | 0.05 nm | 0.12 nm |
| 光斑大小 | 1.5 mm | 1.5 mm | 1.5 mm |
| 测量速度 | < 1s（单次测量） | < 1s（单次测量） | < 1s（单次测量） |
| 光源 | 卤钨灯 + 氘灯 | 卤钨灯 | 卤钨灯 |
| 样品尺寸 | 直径从1mm 到 300mm或更大 | 直径从1mm 到 300mm或更大 | 直径从1mm 到 300mm或更大 |
1 取决于具体材料
2 Si/SiO2(500~1000nm)标样片
3 计算100次测量500nm SiO2标准片的1倍标准偏差，对20个有效测量日的1倍标准偏差取平均
4 计算100次测量500nm SiO2标准片的平均值，对20个有效测量日的平均值做2倍标准偏差
