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椭偏仪是一种非接触、高精度光学测量设备，核心用于测定薄膜厚度、折射率及介电函数等关键参数，广泛应用于半导体、薄膜及材料科学领域。其工作原理基于偏振光与样品的相互作用：光源经起偏器、补偿器（可选）调制为特定偏振态光，斜入射至样品表面后，光的振幅与相位随样品特性发生变化；反射光经分析器处理后，由探测器检测并输出振幅比（Ψ）和相位差（Δ）两个核心参数；通过建立光学模型拟合测量值，反演得到样品具体参数。该设备具备无损、高灵敏度、适配超薄薄膜的核心优势，是精密光学表征的核心工具。
椭偏数据分析的流程主要包含以下四个核心步骤：
| 测量 (Measurement) | 获取样品的实验数据，即不同波长下的 Ψ 和 Δ 值。 |
| 建模 (Model) | 建立一个层状的光学模型来表示样品的名义结构，并据此产生理论数据。 |
| 拟合 (Fit) | 定义拟合参数（如折射率 n、消光系数 k、厚度等），通过软件自动调整这些参数，使理论数据与测量数据达到最佳匹配。 |
| 结果评估 (Results) | 对分析结果进行评估。如果结果不可接受，则需要返回修改光学模型或重新定义拟合参数，直到获得满意的结果。 |
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