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光刻胶无损测厚仪

光刻胶测量的“安全”专家

🔹 非曝光波段光源避开敏感波段,杜绝胶层变性

🔹 原位无损检测法无需破坏样品,实时监控工艺

🔹 纳米级超高精度消除基底干扰,精准把控厚度

传统光刻胶测量的挑战

🚫 样品损伤|强光照射致胶层曝光变性

📉 测量误差|复杂基底与多层结构干扰

⏳ 效率低下|手动对焦耗时,重复性差

⚠️ 工艺隐患|接触式测量引入颗粒污染

悉识科技膜厚仪:专业无损测量光刻胶

🛡️ 物理级安全防线

剔除紫外波段,确保光刻胶“零曝光、零变性”

🎯 穿透厚膜的“火眼金睛”

针对百微米超厚光刻胶,实现高信噪比测量

厚度 (d) 与光学常数 (n, k) 智能解算

自动解析厚度峰值,无需人工拟合,秒级出数

产品特色

📊极致性能

15nm – 1.5mm (量程覆盖薄膜至厚膜)

< 0.02 nm (静态测量稳定性)

多层全参解析 (含厚度及 n、k)

🛠️灵活定制

0.2mm (可选配微小光斑)

便携 / 在线 (支持手提箱及产线集成)

100% 国产 (软硬件自主可控)

🧠智能算法

PolarX (自研核心算法引擎)

1 秒出数 (一键全自动拟合)

无门槛 (流程极简,快速上手)

在线咨询:悉识科技杨经理 13817395811

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