偏振光精密分析技术，超薄膜层测量解决方案
偏振光以特定角度入射到样品表面，反射光的偏振态会发生改变。通过测量椭圆偏振参数Ψ和Δ，可以精确计算出薄膜的厚度、折射率n和消光系数k。
偏振光入射样品表面，反射光偏振态发生改变
通过测量椭圆偏振参数Ψ和Δ获取光学常数
同时测量膜厚、折射率n和消光系数k
适合测量超薄膜层（<10nm）和复杂光学材料
线偏振光或椭圆偏振光以特定角度入射到样品表面
测量反射光偏振态变化，获得振幅比Ψ和相位差Δ
通过光学模型拟合，计算膜厚、折射率和消光系数
软硬件完全国产化自主知识产权，核心技术达国际先进水平
核心部件自主研发，拥有完整自主知识产权
可测量1纳米到15微米的薄膜厚度、折射率、n&k值
可测量硬质材料、软质材料或表面易受损的样品
亚纳米级厚度测量精度，可达0.05纳米
可以测量多层复合薄膜各层的厚度与光学参数
核心专利算法，一键式测量大跨度膜厚，极大简化测量流程
自研PolarX分析软件，包含配方预测验证、特殊材料捏合等独特功能
静态稳定性可达0.005纳米，长期使用测量结果稳定可靠
多维度薄膜分析功能，满足从研发到生产的全场景测量需求
Psi/Delta优化拟合算法，精准测量薄膜厚度
采用先进的Psi/Delta拟合算法，通过最小二乘法优化目标函数，实现对椭偏仪测量数据的高精度拟合。该算法能够快速收敛，即使对于复杂的多层膜结构也能准确计算各层厚度、折射率和消光系数。
内置Cauchy、EMA、谐振子等多种光学模型
内置多种经典光学模型，支持Cauchy模型、EMA有效介质近似、谐振子模型等，可适用于半导体、光学涂层、二维材料等多种材料体系，满足不同应用场景的测量需求。
一键式测量多种厚度的样品
创新的配方预测验证功能，只需一次测量即可获得多种厚度样品的预测结果。软件自动分析光谱特征，快速推算目标厚度范围，大幅提升研发和生产效率。
半导体超薄膜、光刻胶等纳米级薄膜的精确测量
光学涂层、增透膜、高反射膜的厚度与光学常数测量
OLED、薄膜太阳能电池等柔性器件的膜厚检测
生物薄膜、医用涂层、药物释放膜的分析
新型光学材料、半导体材料的光学特性分析
硬质涂层、装饰镀层等功能性膜层分析