核心技术

反射式干涉光谱分析技术

垂直入射高稳定宽波段光测量技术,非接触式薄膜厚度精密检测

测量原理

采用垂直入射的高稳定宽波段光入射到样品表面,在各膜层之间产生光学干涉现象,反射光经过光谱分析以及回归算法可计算出薄膜各层的厚度。

垂直入射光路示意图

干涉光谱分析技术

宽波段光源提供稳定的光谱覆盖范围

多层膜干涉产生特征反射光谱

回归算法精确计算各层膜厚参数

适合测量纳米级至微米级的透明或半透明膜层

硅片上纳米多层膜的干涉反射光谱曲线

硅片基板

纳米多层膜结构

波长 (nm) 反射率 (%)

干涉反射率光谱曲线

技术优势

悉识科技反射式干涉光谱分析技术的核心优势

宽测量范围

从10nm到3mm的广泛测量范围,覆盖从纳米薄膜到厚膜的各种应用需求

高测量精度

测量精度可达±0.1%,在宽测量范围内保持出色的测量稳定性和重复性

快速测量

单点测量时间小于1秒,支持连续测量模式,满足在线检测和大规模生产需求

非接触测量

采用光学非接触测量方式,不会对样品造成任何损伤,适合精密元件检测

多膜层分析

支持多层膜结构分析,可同时测量各层膜厚度和光学常数

易于集成

模块化设计,便于集成到生产线和自动化设备中,支持OEM定制

应用领域

半导体制造

晶圆镀膜厚度监测、刻蚀终点检测、薄膜工艺控制

光学镀膜

增透膜、高反射膜、滤光片等光学薄膜的厚度控制

显示面板

LCD、OLED、触控屏等显示面板的薄膜测量

光伏行业

太阳能电池薄膜厚度检测、钝化层质量控制

科学研究

材料科学研究、纳米薄膜制备、新材料光学特性分析

金属镀层

五金镀层、装饰镀层、功能性镀层厚度测量

了解更多关于我们的技术

悉识科技提供多种基于反射式干涉光谱分析技术的测量产品,满足不同应用场景的需求