高端科研级椭圆偏振光谱仪

ES-Primo
椭偏仪

高端椭圆偏振光谱仪,采用先进的偏振调制技术,适用于纳米级薄膜的精确测量。可同时测量薄膜厚度和光学常数(n, k),为科学研究提供最精准的数据。

ES-Primo 椭偏仪

核心特性

ES-Primo椭圆偏振光谱仪集成了悉识科技多项创新技术,为科研用户提供最精准的薄膜测量解决方案

纳米级精度

厚度测量精度可达±0.01nm,光学常数精度±0.001,满足最严苛的科研需求

双参数测量

可同时测量薄膜厚度和光学常数(n, k),为材料研究提供更全面的数据支持

快速测量

单点测量仅需1秒,支持大面积样品的快速 mapping 测量

联用兼容

可与AFM、拉曼光谱、低温系统等设备联用,满足多样化科研需求

技术参数

ES-Primo椭圆偏振光谱仪的详细技术规格

参数项 规格
型号 Primo UVX(可选配其他波段)
波长范围 190 nm – 1700 nm
入射角 45-90 degree
厚度测量范围 0.01 nm – 50 μm
准确度(SiO2 on Si) ± 1.5Å or 0.2%
静态重复精度1σ 0.1Å or 0.01%
折射率准确度 ≤±0.005 (SiO2 on Si)
折射率静态重复精度1σ ≤0.0005 (SiO2 on Si)
光斑大小 标准测量光斑2mm,可选范围 50 μm – 400 μm小光斑
测量速度 < 10s(单次测量)(可选配快速测量方案,快至1s)
光源 卤钨灯 + 氘灯
样品尺寸 直径从1mm 到 300mm或更大
样品厚度 支持0.1mm ≤ t ≤ 6mm(可定制)
样品台配置 信号辅助调平功能,Z轴可升降,可调节样品台俯仰角
材料库 内置超百种材料,并包含Cauchy, Cauchy Urbach, Lorentz, Sellmeier, Harmonic Oscillator, Tauc-Lorentz, Drude, Gaussian, EMA, Multi-oscillator 等多种振子模型。软件可开放谐振子模型

应用领域

ES-Primo椭圆偏振光谱仪广泛应用于各种科研领域,为材料科学研究提供精准的薄膜测量解决方案

半导体研究

测量高k栅极介质、FinFET结构、3D NAND等先进半导体器件中的超薄层厚度和光学常数。

二维材料

测量石墨烯、过渡金属硫族化合物、MXene等二维材料的层数和厚度,支持大面积mapping测量。

光学薄膜

测量AR/HR涂层、滤光片、分光镜等光学元件的膜层厚度和光学常数,支持多层膜分析。

生物材料

测量生物膜、蛋白质吸附层、细胞培养基质等生物材料的厚度和光学特性,支持原位测量。

新能源材料

测量太阳能电池、锂电池电极、燃料电池等新能源器件中的功能薄膜厚度和光学性能。

基础物理研究

研究材料的介电函数、能带结构、等离子体共振等基础物理性质,支持变温、变场测量。

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