Spectral Thin Film Reflectance Calculator for Thin-Film Stacks
该计算器用于计算薄膜间因干涉现象产生的反射率光谱。基于与KLA薄膜测量系统相同的计算引擎，使用菲涅尔方程组的复矩阵形式（complex-matrix form of Fresnel equations）进行精确计算。
采用严格电磁理论，通过传输矩阵方法计算多层薄膜系统的光学特性。考虑了薄膜干涉、色散效应和偏振特性。
| 层级 | 材料类型 | 厚度 (nm) | 操作 |
|---|
* 计算器会自动估算该折射率材料的平均色散特性
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材料折射率数据来自KLA在线数据库。请注意，并非所有材料都具有200-2000 nm的完整数据范围。对于缺失的数据，系统会使用插值方法进行估算。
未来版本将支持更多高级功能，包括：渐变层、渐变界面、粗糙度、超晶格、定制材料添加、保存薄膜堆叠结构等。
本计算器使用与KLA薄膜测量系统相同的计算引擎，基于严格的菲涅尔方程复矩阵形式，可提供高精度的光学特性计算。
该工具广泛应用于半导体、光学镀膜、显示技术、生物医学设备等领域的薄膜光学特性预研和设计验证。
基于严格的电磁理论计算多层薄膜的干涉效应
支持200 nm（紫外）至2000 nm（近红外）波段
支持0°到高角度入射，包含偏振效应
最多20层薄膜堆叠，适用于复杂光学涂层设计
内置常见薄膜材料的光学常数（n, k）
支持计算结果下载，便于进一步分析